中微公司董事长、总经理尹志尧在最近的业绩说明会上透露，中微公司在集成电路制造领域取得了显著进展。其开发的12英寸高端刻蚀设备不仅已应用于国际知名客户的先进生产线，并且在5纳米及以下器件的关键加工步骤中发挥着重要作用。

尹志尧进一步强调，在3D NAND芯片制造方面，中微公司的等离子体刻蚀设备已成功应用于128层及以上的量产。公司还针对存储器件客户的需求，正在研发具有极高深宽比的刻蚀设备和工艺。同时，为了满足逻辑器件客户的要求，中微公司也在开发更先进的刻蚀应用设备。

这些成就不仅反映了中微公司在集成电路制造领域的深厚实力，也展示了公司在不断创新和优化产品以满足市场需求方面的决心。随着技术的不断进步和应用领域的扩大，中微公司有望在未来继续巩固其市场地位，并推动整个行业的发展。